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Entwurfsmuster / Patterns Teil 2 |
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Zielgruppe |
Software-Architekten und –entwickler.
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Voraussetzungen |
Fundiertes Wissen über Struktur und Anwendung von Entwurfsmustern sowie Kenntnisse in einer objekt-orientierten Programmiersprache empfehlenswert. |
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Lernziele |
Die Teilnehmer lernen aufbauend auf dem Seminar „Entwurfsmuster/Patterns 1“ Muster für nebenläufige und verteilte Anwendungen kennen. |
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Inhalt |
Nach einer Wiederholung und Auffrischung der im ersten Seminar vorgestellten Entwurfsmuster, wird anhand von Anti-Patterns die Lösungen verschiedener Probleme besprochen, die bei dem Entwurf von verteilten Anwendungen und im Bereich Nebenläufigkeit auftreten.
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Die Patterns des Seminar 1 werden dabei unter diesen Gesichtspunkten genauer betrachtet und mit Hilfe der neuen Entwurfsmuster zum Teil überarbeitet und neu implementiert. |
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Methodik |
Vortrag und Erfahrungsaustausch |
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Anzahl Teilnehmer |
10 Teilnehmer |
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Referent |
Christoph Daniel Gorks |
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Dauer |
2 Samstage 9:30 – 17:00 Uhr |
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Termin |
06.12. + 13.12.2008
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Ort |
Aschaffenburg oder Frankfurt |
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Kosten |
690 € pro Teilnehmer
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Anmeldung |
training@pass-consulting.com |
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